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Proveedores profesionales de sustratos cerámicos de película fina
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Mantiene estrictos controles de proceso y parámetros de prueba para garantizar un producto consistente en cada lote, brindando un valor y rendimiento óptimos.
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Procesos secundarios avanzados como mecanizado láser, pulido y lapeado.
Características
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Al2O3 %: ≥99,6 |
Conductividad térmica: ≥30 W/mK a 25 °C |
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Tamaño: hasta diámetro 8 pulgadas |
TCE: 7,1 ppm/℃ (25-300 ℃) |
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Espesor: 0,05~2 mm, ±2% |
Acabado de la superficie: |
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Densidad: ≥3,9 g/cm3 |
Como se disparó: 50-80 nm/80-150 nm |
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Absorción de agua %：0 |
Pulido: <300 nm |
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Resistencia a la flexión: 550 MPa |
Pulido: ≤25 nm |
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Constante dieléctrica: 9,9 ± 0,1 a 10 GHz |
Resistividad volumétrica: ≥1*1014 Ω.cm |
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Tangente de pérdida dieléctrica: 0,0001 a 10 GHz |
Rigidez dieléctrica: ≥15 kV/mm |
